二手 ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M #293653250 待售
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ID: 293653250
Mask aligner
Wafer stage, 3"
Photomask stage, 5"
PHILIPS HNS81701 Monitor
Spare parts:
Mask hold
Wafer vacuum chuck, 3"
Lamps
Light power meter.
ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M是為精密微電子制造而設計的最先進的高性能口罩對準器。它提供了業界領先的光掩模對準精度和穩定性,從而降低了半導體制造過程中的故障率。ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M對齊器非常適合半導體晶片的生產,因為它具有高吞吐量、低擁有成本以及可容納多達25 「x 25」基板的大型工作包絡。在其核心，ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M是一個直接接觸式面膜對準器配備了一個投影鏡頭和五個微定位器。該設備的設計目的是確保在曝光過程之前將圖樣化的光掩模和基板精確對齊。這是通過與集成準直透鏡的並行對準方法實現的，它提供了從光掩模到基板上的精細圖案的完美重復。高分辨率微定位器用於x、y和z軸聚焦，允許在所有三個軸上都具有亞微米精度。ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M還配備了先進的DCCD（直接接觸陰極放電）掃描儀,以提高吞吐量和準確性。這結合了無粒子投影環境和高精度的光學系統，允許最佳的掩模到基板的配準。它還帶有一個強大的呼吸單元，監測投影透鏡的散光和昏迷像差，確保可重復的結果。ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M憑借其專有的Bright Source Variable （BSV）蒙版投影機提供了卓越的照明均勻性。此工具使用多個可單獨調整的LED,允許用戶修改照明強度和均勻性,以完全符合其應用要求。總之，ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M是一種行業領先的掩模對準器，為各類半導體和光子應用，包括激光劃線和單脈沖曝光提供了卓越的準確性和可重復性。它為實現最高收益和最低擁有成本提供了一個可靠的平臺。
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