二手 ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M #9293272 待售

ID: 9293272
晶圓大小: 2"-4"
優質的: 2010
Mask aligner, 2"-4" 2010 vintage.
ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M是一種用於先進半導體制造工藝的高性能、最先進的掩模對準器。它能夠精確接觸對準感光材料和基板,如晶圓,具有卓越的精度和可重復性。該掩模對準器具有350 nm波長、納米分辨率的光束源和動態電荷控制驅動器(DCCD)設備,以提高穩定性。ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M能夠非常精確的對準和模式對準,以實現大容量的光掩模生產。這是通過編程的對齊軟件和電動級對晶片的控制操作來實現的。這些電動機由高精度的運動控制單元驅動,具有精確定位晶片的能力。該單元還包括一個6英寸(6英寸)多層光學系統,可實現卓越的成像和對準精度。350 nm的近紫外線光束進一步增強了這一點,這種光束已被證明能顯著降低設備表面的過程誘導應力。這反過來又降低了底物缺陷的發生率,提高了產量。此外,對齊器還包含一個動態電荷控制驅動器(DCCD)單元,進一步提高了精度、重復性和準確性。DCCD機器的工作原理是減少位置調整時間,因為它可以抵消對齊過程中外部幹擾引起的基於電荷的激發。ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M可用於復雜和高精度的制造應用。它適用於具有挑戰性的半導體工作環境,例如那些涉及亞微米特征大小和先進的MEMS和NEMS工藝的環境。總體而言,ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M由於具有高度精確和可重復的對準和成像能力,是高級半導體光掩模生產的絕佳選擇。其強大的設計和提高的精度進一步提高了產量和成本降低,同時維護了最高的精度水平。
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