二手 ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M #293596008 待售

ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M掩模對準器是半導體集成電路（IC）制造的對準過程中使用的精密設備。它通常由兩個主要組成部分組成：晶片級和標線級。晶片級在對齊循環之前將晶片支撐並對齊其位置。標線級負責光掩模（或標線）相對於晶圓的對準位置的對準。這兩個階段的特點是真空系統吸入晶片或標線向下，為對準過程提供了堅實、穩定的基礎。ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M掩模對準器配備了一個準直系統，由一個分束器和兩個透鏡組成，提供了一個準直光源，用於測量晶圓和標線之間的角度不對準。利用沿X-Y-Z軸運行的多臺伺服電機,實現了ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M掩模對準器的對準精度。這些伺服電動機提供並保持高達+/-0.5微米的水平和垂直精細水平對準精度。ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M掩碼對齊器由工業PC提供動力,該PC具有高級操作單元和用於控制整個對齊過程、定位和掃描的單個軟件。這使得機器能夠定位晶片和標線，測量未對準，必要時調整或校正對準。此外,PC平臺還提供了用於設置、顯示器、故障排除和診斷的聯網功能。在ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M掩模對準機中采用了由兩個成像系統和帶弧傳感器的連續紫外線光源組成的光學機器。成像工具用於捕捉標線和晶圓的圖像，而電弧傳感器測量它們的接觸角。這樣可以確保在X-Y-Z軸上的最大運動精度,並始終保持較低的錯誤率。此外,ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M還包括雙攝像頭控制設備（DCCD）,用於觀察和比較標線和晶片的圖像,從而提供更可靠的對準結果。ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M掩模對齊器的設計使其對齊結果具有更高的準確性。它提供高達0.25微米的重復性精度，其整體對準精度設置為+/-0.5微米。這使得它成為前沿半導體生產線應用的絕佳選擇。此外，其先進的控制資產，可靠的光學模型和易於聯網使操作簡單高效。