二手 ABM ABM/8/500/NUV/DCCD/M #293797160 待售
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ID: 293797160
晶圓大小: 8"
優質的: 2011
Mask aligner, 8"
NUV / DUV Wavelength
Uniform beam size: 8"
Exposure light source for G-Line, H-Line, I-Line wavelength
Single / Split-field dual CCD Camera alignment system
Single / Split-field microscope alignment system
Double side exposure system
Square area:
< +3% over, 8"
< ±1% over, 4"
< +2% over, 6"
Printing resolution:
<0.5 Micron for vacuum / Hard contact (NUV Exposure)
<0.8 Micron for soft contact
<1 Micron for 50 Micron proximity gap
<2 Micron for 100 micron proximity gap
Alignment accuracy: ± 0.5 micron
500 W for Light source (NUV), 8":
365 nm Output intensity: 18-20 mW/cm²
400 nm Output intensity: 35-40 mW/cm²
436 nm Output intensity: 8-10 mW/cm²
2011 vintage.
ABM ABM/8/500/NUV/DCCD/M是為微電子學和半導體制造中的高精度光刻工藝而設計的高度先進的掩模對齊器。這款尖端設備結合了精確對準特性、先進的曝光能力和創新技術，以滿足現代納米技術應用的需求。ABM/8/500/NUV/DCCD/M面罩對齊器具有廣泛的規格和卓越的性能，為在基板上以最高的精度和一致性產生復雜的圖案提供了一個全面的解決方案。ABM/8/500/NUV/DCCD/M遮罩對齊器的主要特點是它具有8英寸的遮罩尺寸功能,允許用戶使用更大的基板,並以更高的效率創建復雜的模式。這種擴展的容量對於吞吐量和產量是關鍵考慮因素的大批量生產環境特別有利。該系統還提供了500W的NUV（近紫外線）光源,能夠在整個基板表面快速曝光具有高分辨率和出色均勻性的光敏材料。ABM/8/500/NUV/DCCD/M掩碼對齊器的傑出特性之一是其先進的對齊單元,它采用了先進的DCCD（數字顏色補償設備）技術。此專有功能通過補償在對齊過程中可能出現的任何基於顏色的變化來提高對齊精度,從而確保在基板上精確覆蓋遮罩圖案。DCCD技術有效地將對齊錯誤降至最低,並提高了產量率,使該機器成為需要卓越精度和可重復性的應用程序的理想選擇。此外，ABM/8/500/NUV/DCCD/M面罩對準器還配備了集成顯微鏡工具，可實時監測和檢查對準和曝光過程。高分辨率成像功能使操作員能夠驗證對齊質量、優化曝光設置以及及時排除任何問題,從而提高過程控制和生產效率。顯微鏡資產可以與掩碼對齊器軟件無縫集成,以增強自動化和數據分析,從而使用戶能夠簡化工作流程,並以最少的人工幹預實現一致的結果。ABM/8/500/NUV/DCCD/M面罩對齊器還具有一個用戶友好的界面,具有直觀的控件和可定制的設置,使新手用戶和經驗豐富的專業人員都可以訪問該界面。該模型提供了一系列的曝光模式，包括接近、軟接觸和硬接觸，以適應各種基材材料和加工要求。用戶可以配置強度、持續時間和對準策略等曝光參數，以實現不同光刻應用的最佳效果，從圖樣傳輸到薄膜沈積。此外,ABM/8/500/NUV/DCCD/M掩模對齊器還設計了堅固的結構和可靠的組件,以確保長期性能和最小的停機時間。該設備采用了先進的安全功能，如聯鎖、報警和緊急停止機制，以保護操作員，防止操作過程中的潛在危險。此外,還可以使用標準程序輕松維護和校準掩模對準器,從而提高半導體制造設施的整體可靠性和成本效益。總體而言，ABM/8/500/NUV/DCCD/M遮罩對齊器代表了一種用於半導體工業中高精度光刻應用的最先進的解決方案。憑借其先進的功能、多用途的功能和用戶友好的設計,該系統提供了無與倫比的性能和效率,能夠以卓越的精度和可重復性在基板上生成復雜的圖案。無論是研發還是大批量生產，ABM/8/500/NUV/DCCD/M面膜對齊器都是一個寶貴的工具，它使用戶能夠取得優異的成果，推動微電子和納米技術的創新。
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