二手 ABM Custom #9111321 待售
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單擊可縮放
ID: 9111321
晶圓大小: 8"
Mask aligner, 8"
Zeiss high resolution mask alignment microscope
500 Watt UV power supply
Top and backside alignment
Table-top configuration
Adjustable vacuum contact
Precision alignment module for piece parts up to 8" Square, .005" to .3" Thick
Top (2" to 10") and Bottom (2" to 8") vacuum mask holders
Fixed level or Wedge compensation vacuum chucks
Uniform / Collimated exposure beams, Near UV, Mid UV, Deep UV
2-Channel 200 To 2,000 Watt intensity controlling power supplies
Splitfield CCD/TV alignment systems / microscopes
Single Field Zoom & High Magnification Microscopes
Standard support and vibration isolation tables.
ABM Custom是為半導體器件制造應用而設計的極其精確的掩碼對齊器。它配備了一套先進的光學和成像組件,能夠精確定位口罩,以制造最具挑戰性的圖層設計。此工具專為定制掩碼布局需求而設計,如Ultra-Thin Hard Mask和Polyimide應用程序,以及高級Flip Chip和Fan Out應用程序。ABM Custom具有3軸定位設備,具有極高的精度和可重復性。此定位系統可確保掩模精確定位到晶圓表面。它還配備了一個自動視覺對準單元，以補償遮罩位置的任何扭曲或錯位。即使在處理具有挑戰性的幾何形狀時,該機器也能夠快速、準確且可重復地對準晶片表面。Custom還利用專門的圖像處理算法來實現圖像對齊的高分辨率和吞吐量。它使用復雜的圖像分析算法來校正任何外圍失真,從而使晶圓上的掩碼保持一致對齊。此外,ABM Custom允許復雜的曝光參數優化,包括調整螺距、偏移和自動曝光級別。該工具還包括用於微調曝光設置優化的自動校正算法。這樣可以確保無論圖層設計的復雜性如何,掩碼都能準確一致地對齊。Custom是針對ABM Custom掩碼布局需求而設計的精確可靠的掩碼對齊器。它的高精度和可重復性為各種層制造應用提供了出色的解決方案,從Ultra-Thin Hard Mask和Polyimide應用到先進的Flip Chip和Fan Out應用。它的圖像處理算法和集成的優化參數使掩碼能夠可靠對齊，從而產生了一個高效和經濟高效的掩碼對齊器。
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