二手 BSL / BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000 #9174090 待售
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已售出
ID: 9174090
晶圓大小: 4"-6"
優質的: 2011
Mask aligner, 4"-6"
Specifications:
Resolution:
1.25 um lines and spaces, UV-4 (340-440nm)
1.0 um lines and spaces, UV-3 (300-350nm)
Machine to machine overlay:
+/- 0.25 um, 125 / 100 mm systems, 98% of data
+/-0.30 um, 150 mm systems, 98% of data
Machine to itself overlay: +/- 0.25 um, 98% of data
Throughput:
120 Wafers per hour, 125 / 100 mm systems
100 Wafers per hour, 150 mm systems
Depth of focus: +/- 6 um for 1.5 um lines and spaces
Focus stability: +/- 2.0 um over 6 days
Focus range: +/- 200 um, +/-450 um
Extended bellows chuck:
Partial Coherence: Variable, 0.37 to 0.86
Numerical Aperture: .167
Uniformity of Illumination: +/- 3.0%
Particle generation: <7 Particles per wafer pass (1.0 um or larger)
Pre alignment and first-level placement accuracy: +/-15 um
Footprint: 18.65 Square feet (1.732 square meter)
Electrical: 120 Vac at 10 Amps, or 240 Vac at 5 amps
Includes:
Several spare parts
User manuals
2011 vintage.
BSL/BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000是一種先進的、工藝驅動的蒙版對齊器，設計用於超精確的微加工。它是一種圖像成形設備，結合了先進的光學和精確的運動控制技術，在光致抗蝕劑層上創建圖樣。該系統用於在電子封裝上定義電路特征,例如線寬,並為各種組件創建印刷電路板。BSL OS2000單元由光學、運動控制、精密對準和人體工程學控制四大子系統組成。光學工具由兩束激光束組成，用來在光刻膠層上生成圖樣化的圖像來創建所需的圖樣。運動控制設備利用多軸電機將激光束定位在精確的位置。精確對準模型利用閉環伺服維持激光束的精確位置。這樣可以確保在光致抗蝕劑層上精確創建陣列圖像。符合人體工程學的控制設備設計為確保用戶舒適性，具有可調的用戶界面和符合人體工程學的控制。BETA平方光刻OS2000提供出色的分辨率和準確性。它可以達到高達50 nm的模式分辨率,並且可以精確地再現精細的孔徑和關鍵特征。該系統還提供高水平的線性度,以實現對原始設計的高保真度。此外，該單元可以在從標準可見光到紫外線波長的廣泛能量範圍內運行，並且具有可調波長範圍。該機器具有可重復性，以確保生產質量控制和吞吐量。OS2000是半導體和印刷電路板制造的理想選擇。它將最新的微加工技術與最高精度水平相結合，安裝和使用方便。它的高級自動化功能可以減少與掩碼對齊器操作相關的成本和時間。此外，它具有很高的可靠性，並產生一致的結果。
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