二手 CANON MPA 500 Fab #17950 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 17950
晶圓大小: 4-5
Mirror projection aligner, 3"-5"
Auto feeders:
Single
Cassette to cassette
Backside wafer handling
Mask size, 4"-6"
Illumination: High pressure mercury lamp, 2 KW
Intensity: > 600 mW / cm2
Illumination uniformity: + 3%
Aperture sizes: 1.0, 1.1
Exposure uniformity: + 3%
Resolution: 1.5 μm
Depth of focus: > 6 μm (Line width 1.5 μm)
Magnification: < 0.4 μm (3 sigma)
Distortion: 3 sigma < 0.5 um
Scanning accuracy: < 1.5%
Auto alignment accuracy: LBS AA 3 sigma < 0.6 um (He Ne laser beam scan)
Throughput, 6”:
83 wfs/h (First mask mode)
72 wfs/h (LBS AA Mode).
CANON MPA 500 Fab是一種全自動、高性能的蒙版對齊器，用於光刻和微加工工藝。它專為精確度和準確性而設計，允許設備和過程具有高度可重復性的可靠重復性。CANON MPA 500FAB專為在矽、石英和玻璃等基板上制作高質量圖像圖樣而設計。該裝置提供從1um到5um的高曝光分辨率，以及提供遮罩和基板圖案精確對準的光學對準設備。設備的曝光系統還確保每個樣品的結果一致、一致。MPA-500FAB配有一個標準的X-Y掃描表，設計用於基板和掩模的快速對齊。該單元可以對齊小至200 nm的測量面罩,使其適用於細線圖案應用。該機還具有全面的控制精度曝光範圍，包括快門控制、曝光光源快門、脈沖寬度調制和直控曝光光源輸出。CANON MPA-500FAB提供了多種用於精細圖案和制造的功能。例如，該單元配備了曝光電平控制電路，能夠對曝光光源進行精確的平整和定向。此外，該裝置允許接觸金屬和其他高對比度材料，與傳統的接觸方法相比，接觸強度高達5倍。MPA 500FAB具有使曝光模式適應基板模式的獨特能力，以減少圖案所需的曝光鏡頭數量。此功能可提高吞吐量、提高產量和節省成本。該單元還提供多種軟件功能，包括蒙版編輯、邊緣檢測、基板表面檢查和圖像評估。這些功能提供了可靠和精確的結果，即使在大規模的過程中也是如此。綜上所述，MPA 500 Fab是光刻和微加工工藝高速、高質量的掩模對準器的理想選擇。該機具有精確的控制和廣泛的特點，非常適合在各種基板上制作精細圖案。它還提供了許多軟件功能,以簡化流程工作流並優化時間和成本節約。
還沒有評論