二手 CANON MPA 500 Fab #9226312 待售

CANON MPA 500 Fab是一款高性能、可靠的掩模對齊器，旨在為微電子元件，例如高密度半導體器件的制造過程提供先進的光刻能力。它采用了創新的基板吸盤設備，允許精確的基板處理，並實現了極其精確、可重復和高度精確的光刻。該系統還能夠在設計包絡內應用具有高度可重復性、公差和對齊精度的多層特征。CANON MPA 500FAB中使用的投影儀鏡頭是一種高端光學解決方案,具有出色的成像質量,具有全場和邊距成像的對準精度。它還能夠使用從紫外線到紅外線的光源進行光譜成像。連續脈沖激光二極管（CPLD）和深紫外線（DUV）技術，以不同波長提供，已集成到單元中，提供動態曝光控制的靈活性。MPA-500FAB具有高精度光學顯微鏡和最新的高速數據采集和圖像處理技術，具有低顆粒水平的汙染控制。其主動空中成像特性確保了關鍵過程幾何形狀的精確對齊，提高了配準過程的速度和準確性。此外,其先進的自動對焦機、ABFR光源和S/W可增強刀具的整體性能,從而實現更高的性能和可靠性。CANON MPA-500FAB中采用的計算機輔助維護（CAM）技術使維護、維護提醒和預測性維護功能能夠快速輕松,確保正常運行並避免生產過程中短期故障造成的嚴重損壞。它還為數據庫管理提供了安全和優化的自動化訪問資產。該模型還提供了一種新型的基板吸盤設備，能夠完全真空吸收，並用一只手工作，以確保基板處理過程的最大可靠性和準確性。這反過來又最大限度地提高了吞吐量以及準確性和可重復性,並為放置和提升步驟集提供了理想的環境。此外,MPA 500FAB還提供了廣泛的工藝功能,並為工藝優化提供了獲得專利的工藝選項。工具包括二次源方法（SSM）和匹配引擎（Match Engine, ME），它們非常精確地計算基板運動，以及優化序列（OS），大大減少了掩碼交換過程中的時間損失。最後,系統提供了幾乎無限的特征大小、掩碼布局和過程序列定制陣列,以實現設計靈活性。