二手 CANON MPA 500 Fab #9269097 待售

CANON MPA 500 Fab是為半導體晶片的對準和光刻制造而設計的高精度掩模對準器。它能夠在同一暴露期內對準多達八個晶片，設計用於精確控制，精度高。光學設備提供± 30 μ m的精確對準範圍，最大偏差± 15 μ m。CANON MPA 500FAB設計用於有控制的潔凈室環境，具有不透氣的無塵設計和特殊的密封陶瓷門。該單元可提供0至2mm之間的可調焦距深度和數值為0.5x的最大焦距鏡頭。在操作過程中，對準器的空氣和內殼都通過三級除塵系統進行過濾，以保證最高質量的環境。離子束源通過將電子直接加速到晶圓上來提供嚴格的清潔度，以消除汙染粒子。MPA-500FAB易於使用用戶友好的圖形用戶界面操作。它內置的模式生成器允許操作員快速創建具有多個掩碼和光掩碼模式的自己定制的縫合圖。它還具有快速編寫、曝光和對齊算法,用於高速和低成本曝光過程。適用於單層和多層曝光，可產生高達225mm的大面積曝光，或高達6.4mm的小曝光區域。CANON MPA-500FAB的設計具有靈活性，並且與各種抗蝕劑材料兼容，包括正反兩種。它具有UV對齊器,結合0.2 μ m的最小特征尺寸,允許以亞微米精度創建更精細、更清潔的口罩。CANON MPA 500-FAB是為精度和可靠性而設計的,擊穿概率低.其殼體由高級不銹鋼制成，並已被密封，以防止空氣中的微粒進入機組。它專為低能耗和短工藝周期的速度和能效而設計。它還配備了一臺自我診斷機器,可在出現任何問題時提供反饋,幫助維護和改善性能並防止停機。