二手 CANON MPA 500FA #9226328 待售

CANON MPA 500FA是一種高精度的自動掩模對準器，為光學光刻提供了一種高度精確和可重復的方法。它設計用於制造和測試各種3D結構,包括MEMS、微流體以及高長寬比的微結構和納米結構。它具有較大的工作面積，可達200毫米x 200毫米（7.9 「x 7.9」）。橫向對準的對準精度高達0.02微米（2nm）,垂直對準的對準精度高達0.15微米。橫向和垂直對齊的對齊可重復性均低於0.01微米（1nm）。CANON MPA-500FA設計用於聚酰亞胺、鉻和金口罩等的對齊。聚酰亞胺掩模對準精度為0.03微米（3 nm）。MPA 500 FA具有重力進給系統、伺服驅動器和用於精確橫向和垂直定位的旋轉編碼器。激光幹涉法提高了對準精度.CANON MPA 500 FA可以編程為同時對齊多個掩模圖樣,並且可以與任何光源一起使用。MPA 500FA具有波長範圍為365nm至647nm的光源。光線強度可調，曝光時間由0.1ms可變至1分鐘。曝光是由TTL輸入或內置單表設備觸發的。MPA-500FA通過8位微處理器實現自動化和控制。它具有多種I/O和通信選項,如RS-232、GPIB和以太網。該機還兼容CANON LMS-III（激光微機械系統）。曝光模式是半自動的，曝光水平和延遲由用戶決定。CANON MPA 500FA作為一種光學光刻系統，其聚焦深度為0.15微米或更高，可以處理非常精細的結構。其分辨率高於其他掩模對齊器，允許更廣泛的結構。可以陣列化的結構尺寸也較大，允許使用更大規模的設備。總體而言,CANON MPA-500FA為掩模對準和光學光刻提供了高精度和可重復性。適用於大範圍高長寬比3D結構的制造和測試，包括MEMS、微流體、小規模裝置。它提供出色的分辨率和深度焦點，同時易於操作和編程。