二手 CANON MPA 500FA #9226333 待售

CANON MPA 500FA是一種用於大規模生產半導體器件制造的掩模對準器.它是一種全自動設備,旨在提供高水平的過程準確性和吞吐量。CANON MPA-500FA是基於四點曝光系統設計的，使用的是氙燈。曝光單元使用兩個紅寶石增強石英鹵素燈進行均勻照明，並使用兩個電動光學除斑系統進行高速對準。該機每批最多可處理五個1x1或四個4x4晶片，並配有高速轉動的索引器和10秒的重置時間。MPA 500 FA配有高速模式識別工具和圖像處理算法，用於晶片與納米尺度叠加的對齊。晶圓對準是通過掃描配備數字陰影掩碼處理器的線性CCD陣列來實現的。該處理器負責檢測和識別對齊標記,並能夠校正每個晶片結構的微小變化。此外，MPA-500FA還配備了8位自動聚焦資產，可以在叠加測量中獲得很高的精確度。CANON MPA 500 FA提供出色的叠加精度，高達0.53微米，波長85nm，並具有產生可重復曝光特性的自動化過程控制模型。該設備支持一系列過程，包括接觸、投影和掃描電子束光刻。使用掃描儀板,每個工藝最多可容納十層透明薄膜或薄膜。MPA 500FA與大多數標準曝光材料兼容,可在高達105 °C的溫度下工作。CANON MPA 500FA是用於批量生產半導體器件的經濟解決方案,可輕松與現有生產系統集成。該系統提供高效可靠的性能，可以根據設備制造的特定要求進行定制。直觀的用戶界面和強大的功能使其成為制造高精度光學元件的理想選擇。