二手 CANON MPA 500FA #9226335 待售
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CANON MPA 500FA是專門為光刻應用設計的高級掩模對齊器。它用於半導體晶圓的制造過程,如沈積和蝕刻材料,在晶圓上產生錯綜復雜的圖樣,以及用於其他微電子應用。其最大功率為175W,最大靈敏度為9.0 μ m。佳能MPA-500FA配備了先進的精密元件,如真焦點掃描鏡頭和場對準功能。True Focus Scanning Lens是一種自動對焦掃描鏡頭,旨在最大化光束的功率,減少衍射。磁場對準功能確保透鏡保持與晶片對齊,而不管其運動如何,從而在晶片上提供更一致的曝光。MPA 500 FA還配備了全自動、多軸掩模對準設備。它具有集成的自動曝光功能,能夠自動將曝光與不同大小和形狀的圖案對齊。此功能不需要耗時的手動調整。CANON MPA 500 FA有一個帶有自動曝光控制(AEC)的先進投影系統。該單元根據圖樣邊緣和整個投影區域調整光束的曝光和聚焦。它還具有板載圖像處理和模式對齊功能。MPA-500FA有一個高速光束偏轉機,減少曝光時間和增加吞吐量。它還能夠同時處理晶片的頂部和底部。MPA 500FA還內置了整體故障保護工具。它會實時監視資產,並在發生故障時向操作員發出警報,以幫助防止設備損壞。總體而言,CANON MPA 500FA非常適合那些需要在半導體晶片上精確快速準確地創建模式的人。它具有高速和高精度的掩模對準功能,其自動化功能使其易於操作。
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