二手 CANON MPA 600 FA #190737 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 190737
晶圓大小: 4"-6"
Aligners, 4"-6"
Mask sizes: 5”-7”
Resolution: 1.5 um (Using positive resist)
Illumination:
High pressure mercury lamp: 2 kW
Wavelengths: 365nm (I-Line), 405nm (H-line), 436nm (G-line)
Intensity: (@ 1800 Watts power output)
>700mW, 4"
>650mW, 5"
>600mW, 6"
Intensity / Exposure uniformity: Within ± 3%
CTC: Monitors and controls system temperature within ±3°C
PDC: Provides fine distortion compensation
Automatic alignment: HeNe (633nm) Laser beam scanning
Alignment modes: Spot beam / Sheet beam
Accuracy: 3 Sigma <=.54 um
MPA-600 FA: 200 VAC, 3-Phase, 6 kVA, 50/60 Hz
Air supply (CTC): 200 VAC, 3-Phase, 8 kVA, 50/60 Hz
CDA (Clean dry air) Pressure: Flow rate 130 lit/min
Vacuum: >50 cmHg
Exhaust flow (For illuminator): 6.5 m/sec - 9.5 m/sec (Measured at illuminator output).
CANON MPA 600 FA是一種自動化的掩模對準器,用於生產質量盡可能最高的集成電路(IC)。高精度的設備可以提供很高的準確性和可重復性。配備6英寸狹縫場投影對準器、長壽命離子束源和高分辨率光靶。佳能MPA600FA有一個狹縫場投影對齊器,使光刻面罩和目標基板之間能夠精確、可重復、高精度對齊。這樣可以確保打印過程中盡可能高的寄存器準確性和保真度。該系統還具有長壽命電子束源,可在200 mm IC生產過程中實現清潔可靠的光刻。MPA-600FA還包括一個照片目標,以測量具有卓越準確性和可重復性的對齊參數。電子束光刻裝置工作在非常高的速度,並允許過程跟蹤低至110 µm以及面罩放置精度高達0.1µm。該單元還有一個集成的光學視頻機,便於設置,對準和維護。CANON MPA 600FA具有多種用戶友好的功能,例如允許用戶存儲多達四種不同類型的掩碼-晶圓對齊方式的四個程序。該工具還配備了高級數據處理功能,為用戶提供過程性能的實時度量。內置的統計審查圖還允許對需要最高程度流程控制的FAB進行快速數據分析和微調。總體而言,MPA 600 FA是光刻生產領域公認的領導者,具有極高的精密IC生產能力。長壽命的離子束源、高分辨率的光靶以及對準的速度和精度,使其成為半導體行業內可重現集成電路生產的領先者。
還沒有評論