二手 CANON MPA 600 FA #293608401 待售
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ID: 293608401
晶圓大小: 6"
優質的: 1988
Mask aligner, 6"
Reduction ratio: 1x Scaning
Exposure field: R95 mm
Resolution: 1.8 - 2.0 µm
Focus: ≤ ± 2 µm
Depth focus: ≥ ± 8 um (1.8 ~ 2.0 µm line and space)
Mechanical: Prealignment accuracy: Within Φ 100 um
Illuminator:
Light source: 2.0 kW Super high pressure mercury lamp
Slit: 1.6 mm
Intensity: 450 mW
Uniformity: ≤ ± 3 %
Wafer alignment:
Mode: Manual
Accuracy: ≤ 0.6 µm (3σ)
Scope:
Light resource: LED Type
Erector lens: 1x, 2x, 3x
Scanning mechanism:
Drive unit: Scanning the carriage by DC Motor
Range, 4"-6"
Speed: 5 to 150 sec (25 mm/sec - 0.83 mm/sec)
1988 vintage.
CANON MPA 600 FA是一種全自動掩模對齊器,用來精確對齊光掩模特徵,使晶圓上的模具特徵。它專為生產集成電路、MEMS、光學設備以及高密度封裝和顯示器等3D設備而設計。CANON MPA600FA基於一種浸入式光學設備,它允許對低至25納米的圖樣進行高分辨率成像。它利用高精度對準級進行晶圓和掩模定位,確保高精度對準精度。MPA-600FA還具有針對晶片和掩碼的集成自動對焦功能,從而最大程度地減少了設置對齊器所需的工作時間。MPA 600FA具有內置步進器,以啟用模式叠加編輯功能和3-D補償過程。這確保了高配準精度,即使暴露時間較長,也能使圖樣的精度達到25納米,符合行業標準1:1的配準精度。它還提供了可靠的px。保真度圖模式檢測功能,可以檢測對齊精度偏移和參考格之間的偏移,從而進一步進行補償。MPA600-FA還提供了一個圖像校正裝置,用於圖樣覆蓋晶片到晶片對齊以及掩碼到晶片對齊。MPA600FA有一個LED圖像生成系統,支持4到40微秒的曝光時間。這使得它適用於從微型到納米級器件制造的大多數工藝。CANON MPA600-FA還提供了全方位的照明和基板處理,使光掩模圖樣可以轉移到所需的基板上。這將實現設備模式的長期一致性和準確性。CANON MPA-600FA還具有晶圓計量功能,可同時測量晶圓和掩模功能,以確保設備達到所需的校準。該單元包括一臺高分辨率成像機,能夠讀取光源掩模上的二維圖樣。這項技術允許對掩碼圖樣進行精確成像,並且減少了光掩碼圖樣和設備特征的錯誤對齊。CANON MPA 600FA是生產納米範圍內精密高精度器件的絕佳選擇。此工具設計用於生產設置,具有先進的對齊階段、集成的自動對焦、模式叠加編輯和圖像校正技術。它可靠、準確,並提供設備模式和準確性的長期一致性。
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