二手 CANON MPA 600 Super #9316594 待售

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ID: 9316594
晶圓大小: 4"-6"
Mask aligner, 4"-6" Mask size: 5"-7" Astigmatism: < 2.0 µm Method: Measure vertical and horizontal Focus: < ± 2.0 µm Method: Deviation using tilting mask Uneven focus: < 2.0 µm Intensity: > 550 mW / cm² Input: 1.8 kW Uniformity: < ±3% Method: 11 Points measure integrated intensity in CANON IUC-M3 Distortion: [MX] ≤ 0.4 µm, [MY] ≤ 0.4 µm, [DR] ≤ 0.3 µm Method: DR Mask and wafer Exposure performance: Exposure field: R 95 mm Resolution: 1.4 µm or less Exposure wavelength: 365 nm (L), 405 nm (H), 436 nm (G) Line complex wavelength Reduction ratio: X1 D.O.F: ± 6 um (1.5 µm line and space) Illuminator: Light source: 2.0 kW Super high pressure mercury lamp Intensity: 550 ± 50 mW Uniformity: ±3% or less Wafer alignment: Alignment light source: He-Ne Laser (633 nm) Alignment system: LBS (He-Ne Laser scan AA) Alignment accuracy (3δ): 0.54 µm or less Scanning mechanism: Scan drive unit: Scanning the carriage unit by DC motor drive Scan range: 6" (160 mm), 5" (141 mm), 4" (119 mm) Scanning speed: 5 to 150 sec (25 mm/sec - 0.83 mm/sec) Alignment scope: Viewing scope light resource: Halogen lamp Erector lens: Viewing lens: Manual moving Erector: 1x, 2x, 3x Mechanical pre alignment: Pre alignment accuracy (Range): Φ 100 µm or less Elbow with exhaust fan Covers missing.
CANON MPA 600 Super是一種全自動、平行對準(mask aligner)的光掩模、標線和不透明液體光刻劑。它具有高度精確的標線和光掩模對準設備,可用於半導體、液晶和其他電子元件制造中使用的標線的高產通量處理。利用CANON專有的亞微米對準技術,CANON MPA600SUPER產生了精確的對準,且精度最大。其獨特的模對準精度是成功進行高產加工的重要因素,額定精度為1 µm或更高。該系統還具有三維對齊配方,可用於執行不同類型的對齊,從線性到旋轉,以適應復雜的蒙版設計。MPA-600 SUPER的多用途光學單元具有很高的放大倍率和分辨率以及很長的工作距離。這使機器能夠容納範圍廣泛的基材,從3英寸到6英寸,從垂直面罩到厚重的晶片。因此,它可以用於各種設備生產過程。MPA-600 SUPER具有各種對齊性能優化功能。其中包括用於監視掩模和標線基板材料狀況的掩模輪廓分析功能、用於確保光條對準和曝光模式一致的光條調整校準以及用於優化曝光和對準以獲得正確分辨率的模式曝光算法。該工具還可以與各種類型的設備集成,如晶圓跟蹤器、成像系統和機器人處理系統,以允許完整的生產資產。這樣可以實現快速、自動化的掩碼和標線對齊,以及一致和可靠的操作,以實現高產量的吞吐量生產。MPA 600 Super非常適合需要快速、精確和可靠的對齊結果的設備生產應用。它是一種符合器件生產工藝嚴格行業要求的經濟高效工具,廣泛應用於半導體行業。
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