二手 CANON PLA 501 F #163560 待售

CANON PLA 501 F是一款高精度、經濟實惠的亞微米光刻口罩對準器。它旨在為小型結構提供出色的成像質量和高產率,即使在存在小錯位錯誤的情況下也是如此。該設備具有高效的圖像曝光系統，可產生要對齊和傳輸的圖樣的高分辨率曝光，從而實現亞微米光刻工藝的高精度。曝光單元利用先進的光學曝光頭自動優化圖樣的投影。這包括光束的傾斜、曝光的放大倍數和曝光區域。利用位於曝光頭的優化瞳孔共軛光學器件，進一步提高了曝光水平和圖像質量。精確設計的光學對準器對圖樣進行精確對準和配準，並將錯位誤差降至最低。通過使用先進的抗蝕劑監視器，機器可以補償對軸和/或模式變換效果。此外,該工具還包括一個對齊資產,該資產配備了獨特的壓電轉換器,可實現高精度對齊。為了進一步提高精度,該模型包括一個自動對齊優化設備（AOS）,該設備利用專用的圖像處理器來確定最佳的配準對齊方式。掩模對準器還包括高精度對準系統，可支持0.25微米對準的最高精度。這種高精度的對齊特性使安裝的設備模式能夠更好地轉移到基板上，產生更好的產量和更精細的模式，並具有高分辨率的再現。該單元還可用於並行工藝，可提高吞吐量，減少亞微米光刻工藝的循環時間。CANON PLA-501F具有改進的人體工程學和自動化功能,操作速度更快。它還包括一個內置風扇單元，以減少灰塵顆粒，導致更好的對準和沒有進一步的手動清潔對準。此外,該機器還提供多種軟件功能,可方便地配置為存儲平版印刷信息。這可以幫助用戶快速準備過程並最小化交貨時間。總之，PLA 501F是亞微米光刻的絕佳選擇，具有精確的對準精度，令人滿意的圖像質量和改進的自動化。它提供了一種經濟高效的解決方案,可產生高收益和最小的錯位錯誤。