二手 CANON PLA 501 F #293591834 待售

CANON PLA 501 F是為半導體器件和集成電路（IC）制造中的應用而設計的最先進的掩模對準器。它提供了一系列特性和性能特性,使其成為制造過程的理想選擇,包括光刻、光印、蝕刻等。CANON PLA-501F專為高效的設備和IC生產而設計，工作面積大，對齊速度快，對齊精度精確可重復。該設備采用高功率對準激光器,並采用全掃描運動進行超快速對準,並配備閉環聚焦誤差檢測器,確保每次都能獲得準確的結果。PLA 501F支持高達8 「x 10」的光掩碼大小,並且系統的大工作區允許靈活的設計和工具選項。該單元具有高達每小時1200個晶圓的快速、精確的對準速率，並且在1.5 µm的掩模間距下的對準精度為± 7 µm（10 µm場內± 1 µm）。CANON PLA 501F提供高質量的結果，曝光定量為0.1µm精度。PLA-501F還為不同的遮罩圖樣提供了可變的曝光時間和多重分辨率，以產生高曝光質量和可靠性。此外,該機器還具有高級功能,如靜態對齊和適應不同掩模高度、厚度和尺寸的能力。PLA 501 F還具有控制界面,允許用戶自定義和設置布局、參數等。最後,CANON PLA 501 F還集成了掩碼預對齊器數據傳輸、線終評估和曝光後工具驗證等服務,以確保制造過程的最佳結果。簡而言之,CANON PLA-501F是一款功能強大且可靠的掩碼對齊器,可提供高質量的性能、快速的對齊速率和靈活的工作區選項。它是各種光刻、光印、蝕刻等器件和IC制造工藝的理想選擇。