二手 CANON PLA 501 F #293807116 待售

CANON PLA 501 F掩模對準機是一款先進的、工業級的光刻機，設計用於生產精確度、分辨率和重復性較高的集成電路（IC）器件結構和半導體元件。該裝置包括精密光學和光刻系統，最大曝光面積可達8「至12」（200毫米至300毫米），特征尺寸從5微米至150微米不等。這一特性允許雙層光刻，使得兩層不同的圖樣可以同時在單個晶片上傳輸和覆蓋。還包括一個抗蝕劑側面觀看器、晶片支撐板和真空卡盤，以提高精度，以及一個面罩照明系統和快門，以防止過度暴露抗蝕劑。CANON PLA-501F由先進的自動化控制器提供動力,具有10英寸的觸摸屏,易於使用和輸入數據、可編程邏輯陣列以及圖像和掩碼處理功能。還包括一個配方編輯器,用於存儲和召回不同流程和層的配方。該裝置具有堅固的安全功能，包括自動鎖室門、控制暴露水平的可調曝光窗口和無塵處理的除塵過濾器。此外，這臺機器能夠高精度對準。它包括一個自動對齊系統，準確確定掩模模式相對於晶圓的對齊方式，消除手動對齊，節省時間。PLA 501F掩模對準器已被用於許多工業和研究應用，最顯著的是用於生產微電子元件、高結構曲面和MEMs技術。其卓越的準確性、分辨率和可重復性使其成為需要高水平成果的專業人員的絕佳選擇,而且努力極少。