二手 CANON PLA 501 F #9265301 待售

CANON PLA 501 F是一種掩模對齊器，允許用戶準確、快速地對齊和轉移模式到半導體晶圓上。它是一種自動化的半導體掩模模式發生器，設計用於在將由各層材料組成的模式轉移到晶片上時提供精確的對準。CANON PLA-501F可以處理範圍廣泛的晶圓尺寸，範圍從5到200毫米圓晶圓。它還具有高分辨率的光學設備，能夠產生準確和可重復的覆蓋模式。此功能無需任何手動更正,最終將節省時間和成本。該機配備了數字定位系統，可實現精確對準，並自動註冊多種模式。這個單元提供高精度的對準和校正模式到晶圓，減少了需要人工幹預。該機器還具有一個寬廣的曝光區域，允許用戶同時產生多種模式。這減少了通常與傳統手動蒙版對齊器關聯的提前時間。該機配備了一個最大發射36mW紫外線照明的大功率激光二極管，它提供了極其精確和可重復的圖樣對晶片的曝光。此外,PLA 501F允許用戶對一系列曝光進行編程,然後自動執行,從而確保一致的可靠結果。它的低振動機器，消除任何振動幹擾的光學工具，當暴露圖案到晶片。此外，機器還配備了內置電源，確保在整個曝光周期中平穩可靠地運行。總體而言，CANON PLA 501F是一種高效、可靠且易於使用的掩模對準器，在將圖樣傳輸到半導體晶片上時，可產生高精度和重復性。其先進的特性和設計使其成為任何半導體生產過程的寶貴工具。