二手 CANON PLA 501 F #9301426 待售

CANON PLA 501 F是為微光刻工藝設計的自動掩模對準器。利用超微米分辨率的電動手架、超低壓接觸偏置和數字反饋回路等高精度特性，實現了掩模和晶圓的最佳聚焦和對準。這有助於顯著減少設置掩碼所需的時間,顯著降低成本和周轉時間。其特色還包括內置光源、潔凈室收集設備和數字成像系統，以精確對準掩模和晶圓。CANON PLA-501 F先進的光學設計提供了240-330nm波長的強光照射，能夠準確檢測掩模上的小特征。強大的電子束技術以及一系列精密透鏡和像差測試儀進一步提高了照明面罩的清晰度。該系統還包括先進的傳感器和控制機制，以保持高精度和精確度，即使存在微小的錯位和工藝變化。PLA 501F的設計可提供卓越的晶片對掩模精度,每軸自動掩模放置誤差為0.001微米。這確保了成品的微光刻產品質量最高。該機分辨率優於1nm，最大曝光範圍為8英寸見方，間隙為20mm或更小。它還包括許多其他功能,如最高8秒的自動打印速度、減少化學暴露的EPC清潔劑功能,以及一臺內置激光打印機,用於在出現錯誤時復制口罩。PLA 501 F帶有眾多的安全功能，例如幀內安全警告單元和觸摸敏感控制面板，以防止在對準過程中出現錯誤。此外，該機器還可以與許多其他工具和設備集成在一起，如金屬化、抗蝕劑打印機、冷卻輥等，以提供盡可能最全面的顯微光刻工藝。