二手 CANON PLA 501 FA #163565 待售

CANON PLA 501 FA是專為高精度、高通量光刻應用而設計的最先進的掩模對齊器。該設備為納米/微電子器件的先進制造提供了最佳的光刻平臺。CANON PLA-501FA能夠在整個基板上提供0.5 µm的穩定對準精度,為下一代集成電路設備所需的器件圖樣提供高度精確的亞微米臨界尺寸測量。該系統結合了CANON獨特的投影光學技術，並允許廣泛的任意鏈陣用於先進的3維掩碼對齊。該設計具有高精度晶圓級級，允許精確的樣品放置以及亞微米可重復性。此外，該單元還與各種抗蝕劑和曝光步驟完全兼容，如軟深紫外線、Iline、電子束以及模擬數字光刻。PLA 501FA由一臺全面的對齊控制機器提供動力,每小時最多可執行256,000次對齊測量。該工具使用開放體系結構算法來控制對齊過程,並為高度復雜的曝光過程提供卓越的動態性能。集成視覺系統允許高精度模式識別，確保只檢測晶圓表面的小細節並精確對齊。PLA-501 FA能夠處理直徑不超過8英寸的兩種不同尺寸的基板,並且由於其低維護設計而高度可靠。總之,PLA 501 FA是一種功能強大、可靠的工具,旨在滿足納米/微電子制造的需要。該資產以較高的吞吐量速率提供高精度,並允許用於3維掩碼對齊的任意鏈陣列。該機器具有高精度的模式識別能力，並允許各種抵抗和暴露步驟。PLA-501FA是先進制造最苛刻的納米/微電子設備應用的理想模型。