二手 CANON PLA 501 FA #293749123 待售

CANON PLA 501 FA是光刻中最常用的一種面罩對齊器。此工具旨在將預定義的圖案以極高的精度傳輸到曲面或材料上。用於將電路布局傳遞到半導體晶片上，或加工對光敏感、可用於形成集成電路芯片實際元件的光刻材料。與更復雜的模型相比,這種類型的掩模對齊器是一種緊湊、經濟高效的解決方案,因此通常用於研究實驗室和學術環境。CANON PLA-501FA是一個步進器，這意味著它可以在曝光和一個對齊步驟之間步進，以便在非常重復的模式上實現最大的精度。它配備了兩個高分辨率攝像頭系統，能夠精確對準和定位。相機系統具有自動對焦和精確微調功能，以確保精確的圖像對準和圖像質量。掩模對準器由精確調諧的掃描光學設備提供動力。該系統使用一對安裝到高精度級的檢流鏡。這些反射鏡以電子方式控制,以精確移動掃描和曝光光學器件,在基板上顯示精確的圖樣以進行精確的打印過程。PLA 501FA上的掃描和曝光單元通常具有不大於1300 x 1300 µm的足跡,用於調整詳細的模式。這臺機器包括一個自動聚焦對準工具，以盡量減少曝光時間和提高精度。自動聚焦對準資產精確測量每次曝光時的焦點，不斷調整光束功率，最終產生所需的焦點。可編程的終止點可以編程，以確保每次曝光時都能精確地開始和停止點。面膜的曝光也可以獨立調整，以控制圖案的形狀和大小。CANON PLA-501 FA可以與PC連接，方便基板的自動裝卸，同時保持編程精度。這種對齊器還配備了溫度和濕度控制模型，在暴露過程中將基板保持在適當的條件下。這種設備可以適應多種不同的基板，其中一些包括抗蝕劑、矽膠、陶瓷、玻璃和塑料。這種面膜對齊器的特點使它成為研究和教育實驗室中微加工的首選。它小巧的尺寸和經濟高效的解決方案使它成為不需要更大和更復雜模型的研究人員的首選。PLA-501 FA具有精確的光學和高度精確的對準能力，是光刻和微加工的可靠和專業的選擇。