二手 CANON PLA 501 FA #9030659 待售

CANON PLA 501 FA口罩對準器是一種高度精確、經濟實惠的光刻設備，專為先進的封裝和芯片安裝應用而設計。該系統具有310 × 310毫米的大視場（FOV）和高分辨率0.125 μ米步進透鏡,以確保基板的精確放置和對準。該單元還有兩個獨立的基板級，分別有8"和12"的雪橇，以容納直徑最大24"的基板，允許快速方便的掩模裝卸、基板運動和聚焦調節。該機器先進的光機械設計和高性能的光電子,可實現快速曝光速度和精確對齊,從而使高級封裝或大幅面芯片始終保持高產。為實現圖樣精度,佳能PLA-501FA掩模對準器配備了自動晶圓對準（AWA）工具,該工具采用了一種先進的算法,可以解決掩模/基材的形狀或表面不規則性的變化。這樣可以確保在曝光期間面罩的精確對準。此外,該資產易於使用的圖形用戶界面（GUI）允許用戶快速輕松地調整光刻參數,以優化曝光時間並補償任何模型錯誤。解放軍501FA還配備了可選的激光幹涉儀，可以提高定位精度和曝光時間，確保最高質量的結果。CANON PLA 501FA面膜對準器的其他功能包括簡化維護程序、清潔計時器和可調節的暴露劑量控制。維護過程采用自動關閉和重新啟動，確保設備始終處於完美狀態。清潔計時器還可以設置為在任何首選的定期間隔內生效,以便系統始終保持清潔,並且沒有任何汙垢或殘留物。可調的曝光劑量控制允許對曝光時間進行微調，從而產生高可重現性的高質量圖像。PLA 501 FA掩碼對齊器是一種有價值的工具,可用於快速、準確地為高級封裝和芯片安裝應用生成高分辨率圖像。其龐大的FOV、高分辨率的光學元件、先進的陣列精度和易用性,使其成為許多不同半導體/芯片設計的理想選擇。