二手 CANON PLA 501 FA #9159256 待售

CANON PLA 501 FA是一種全場掩模對準器，為微加工應用提供最佳的光學性能。掩模對準器適用於在包括3-8英寸晶圓、石英基板和玻璃基板在內的多種基板上對氧化物層進行圖樣化。蒙版對準器的整體對準精度為0.2um ±，微小的像素調諧，以及高數值光圈的冷凝器透鏡，能夠對蒙版進行高精度成像，同時保持高對比度。501 FA具有可定制的八板自動索引設備,能夠精確對齊多個圖樣板。501 FA配備了最先進的數字控制器，可精確控制對齊參數。該控制器具有數字模式移位補償和自動快門控制功能，可在對準和光刻過程中實現更精確的晶圓曝光。這種數字控制器還允許調整過程參數，包括焦點、散焦、照明、曝光和晶圓速度。自動校準和對準功能進一步促進了掩模模式的精確和可重復對準。501 FA還配備了高靈敏度圖像檢測系統，能夠提高對準和光刻精度。此單元甚至能夠識別分辨率為1um或更小的最小特征。這臺圖像感應機提供了改進的對比度、顏色匹配和陰影控制,從而實現了極其精確的圖案對齊。面罩對準器還配備了Erbium激光器，用於圖樣板的無照明對準。這消除了對外部光源的需求,同時還提高了對準和光刻過程中的工作效率、可重復性和準確性。Erbium激光器還能夠精確控制光束的強度和波長，以便在各種應用中實現最佳運行。501 FA進一步配備了先進的自動安全功能。這些特點包括塵埃檢測、芯片加熱控制和快門自動設置，以提高操作過程中的安全性。501 FA還配備了40點自動對焦工具,可提供增強的成像性能,同時最大限度地減少所需的手動操作次數。總體而言,CANON PLA-501FA掩模對準器是精確對準和光刻工藝的理想解決方案。這種多用途全場掩模對齊器能夠精確控制對齊參數，為各種晶圓制造工藝提供更高的精度、對比度和分辨率。自動化功能、圖像檢測資產、Erbium激光和高級安全功能進一步促進了微加工過程中的安全性、效率和重復性。