二手 CANON PLA 501 FA #9161682 待售

CANON PLA 501 FA掩模對準器是一種光刻設備，是一種用來將圖案從掩模轉移到基板上的過程。使用UV光，印在面膜上的圖案會暴露在基板上，形成有圖案的薄膜。CANON PLA-501FA的設計旨在提供面罩和基板的精確對齊，即使在鋪設環境發生較大變化時也是如此。PLA 501FA具有創新的光學設備，可以對掩模和基板進行高精度成像。它使用兩個6倍變焦鏡頭,可重復性為4 nm,兩個6倍電信中心鏡頭,可重復性為1 nm,提供高精度測量,精度高達0.02 μ m。該單元還包括成像系統、控制器和晶片級。PLA 501 FA設計用於潔凈室環境,並配有汙染控制單元。其空氣過濾等級為ISO Class 4,空氣速度為0.45 m/s,溫度和濕度水平通常分別在20°C至25°C （68°F至77 °F）和30-70% RH之間。先進的光學機器以及板載對準和成像系統具有幾種功能，包括：配準/對準檢測、放置精度、孔/薄膜圖樣檢測和調光/圖樣識別。該成像工具能夠獲取有效視野為光學視野四倍的圖像。CANON PLA 501FA具有直徑為300 mm （12 in）、XY精度為0.02 μ m的晶圓級,可容納各種基材。它還配備了一個內置的視覺資產，提供精確的實時孔/圖案對準控制和對圖案化膠片的識別。CANON PLA-501 FA是一種強大的生產級光刻解決方案,非常適合創建高級半導體器件、傳感器、IC、3D微結構和其他超精細圖樣等應用。它提供了高水平的掩模對準精度，這使得它成為在先進半導體行業工作的專業人士的絕佳選擇。