二手 CANON PLA 501 FA #9190949 待售

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CANON PLA 501 FA
已售出
ID: 9190949
晶圓大小: 5"
Mask aligner, 5".
CANON PLA 501 FA是為生產微電子器件和其他光刻應用而設計的高精度掩模對準器。它由先進的納米定位系統和高分辨率步進電機提供動力,使光刻面罩能夠快速準確地對準基板。對準器具有很高的對準精度,能夠在x和y兩個方向上對準+/-2 µm或更高。CANON PLA-501FA配備了一個安靜、快速移動的5英寸舞臺。它可以支持最大6英寸的基板尺寸,並帶有自動基板裝載機。它的總視場為5.12",這為對齊和曝光提供了一個令人印象深刻的視場。視場的補充是讀出精度為0.01µm。PLA 501FA具有透鏡光學系統,可實現非接觸、接觸和幹涉對準。即使在掩模和晶圓尺寸以及可變基板厚度之間存在差異時,這也允許精確對齊。PLA-501FA提供了優化的照明系統,可根據應用提供全方位、低強度的光源或高度集中的光斑。這樣可以更好地照射基板和遮罩,並提高對準精度.此外,掩碼對齊器還具有自動掩碼移位系統,可幫助減少曝光操作期間可能發生的黃斑對齊錯誤。CANON PLA-501 FA還配備了獲得專利的重新對齊技術,使對齊圖像能夠存儲以供以後使用,從而易於重復對齊。此功能還消除了手動對齊設置的需要。最後,面罩對準器還有一些可用的配件,包括高性能平臺和額外的照明器。總體而言,PLA 501 FA是一種可靠、高精度的掩模對準器,使微電子生產效率和準確性大大提高。它提供了光學對準、自動基板加載、優化照明系統和重新對準技術等高級功能,使其成為光刻操作的絕佳選擇。
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