二手 CANON PLA 501 FA #9328888 待售

ID: 9328888
晶圓大小: 5"
Mask aligner, 5" Gases: N2: Maximum pressure: 3.5 kg/cm² Maximum flow: 10 LPM Pipe: SUS316 Connector: SWAG Caliber: 1/4" CDA Vacuum Mercury lamp: 250 W Wafer exposure, 5" Washing water containing organic solvent: Pipe: PP Connector: SWAG Caliber: 2" Ground: 1 ohm Manual included Power supply: 220 V, Single phase, 3-wires, 1.6 A Lamp power supply: 110 V, Single phase, 3-wires, 5.5 A.
CANON PLA 501 FA是由CANON Anelva Corporation製造的口罩對準器。它設計用於各種半導體器件的制造過程,具有高精度、模具結構化的設計,使光掩模能夠精確對準基板。掩模對準器能夠提供精確的對準,具有0.3 µm的重復性和1 µm的精度。該設備支持廣泛的基板,包括石英、矽,甚至GaAs,並被設計為與多種光掩模高度兼容。該系統具有強大的高分辨率光學單元,可實現10-5級以上的光強度控制、快速的曝光時間和簡單的曝光條件調整。CANON PLA-501FA提供的光強度控制、對準精度和快速曝光時間相結合,使其適合於廣泛的應用,包括光刻膠曝光、幹蝕刻、焊接和封裝。蒙版對齊器具有一個大的、高度直觀的觸摸式面板控制面板,可輕松操作和調整。它還提供了一個內置的安全警報機器,在工具出現任何問題時會向用戶發出警報。此外,資產還采用軟啟動技術,可減少振動和熱失真,從而進一步提高對準精度。該型號的高級功能由多種硬件和軟件組件實現,包括高分辨率CCD圖像傳感器、高級激光成像設備、高精度XYZ軸以及集成軟件套件,這些軟件套件允許簡單調整參數,包括對準精度、曝光時間等。總體而言,PLA 501FA掩模對準器是一個強大而精確的系統,它提供了與各種基板的極好的對準精度。它非常適合各種半導體器件制造過程,並提供高級功能,如光強度控制、快速曝光時間、軟啟動技術、直觀的觸控面板等。
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