二手 CANON PLA 501 FA #9328963 待售
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ID: 9328963
晶圓大小: 5"
Mask aligner, 5"
Gases:
N2:
Maximum pressure: 3.5 kg/cm²
Maximum flow: 10 LPM
Pipe: SUS316
Connector: SWAG
Caliber inch: 1/4"
CDA
Vacuum
Mercury lamp: 250 W
Wafer exposure, 5"
Ground: 1 ohm
Manual included
Power supply: 220 V, Single phase, 3-wires, 1.6 A
Lamp power supply: 110 V, Single phase, 3-wires, 5.5 A.
CANON PLA 501 FA是一種用於納米級光電器件制造應用的掩模對準器，如涉及發光二極管（LED）、激光和光伏（PV）的應用。它是一種多功能機器，可用於精確對齊高分辨率圖樣的光掩模，以及對齊有機材料和蝕刻成所需的形狀。佳能PLA-501FA利用機械和光學元件的組合，在對準和叠加過程中具有更高的精度和精確度。它包括用於對準基板上掩模的高精度、電機驅動的x-y級，以及用於檢測光掩模邊緣和覆蓋的激光二極管光源。CCD成像設備允許操作員輕松執行對準、叠加和蝕刻操作。除了成像能力外，機器還配備了一對真空卡盤，讓操作員能夠將基板固定在x-y臺上，以及一個可調節高度的自由空間對準封裝，可以對光掩模進行精確定位。PLA 501FA通過其0.35 μ m掃描儀提供高分辨率模式,能夠以1.5 m/s的速度進行掃描。它還具有一個光學變焦，允許高達1,000X的放大倍數，這使得精確的對準和蝕刻操作。最後，機器配備了校準和測試圖表，使用戶能夠確保機器運行準確、分辨率正確。PLA-501FA是光電器件制造應用的絕佳選擇。它結合了精度、速度和精度，特別適合制造納米級器件的苛刻過程。它的多功能性也使它也可以用於其他一系列應用，如微蝕刻和制造有機和無機材料。
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