二手 CANON PLA 501 FA #97269 待售
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單擊可縮放
ID: 97269
Mask aligner
Mercury lamp
Filter L-39
Image surface illumination: 13mW/cm2
Exposure Repeatability: +/-3%, range 0.1 - 59.9
Alignment scope objective lens: 10x
Eyepiece: 10x - 15x
Size of field view: 10x 3.6 mm, 1.8 mm, 0.9 mm
Distance between visual points on photomask movement range: X: +/-10 mm Y: +/-10 mm
Tungsten lamp: 6V, 3A, 18W
Belt drive
Realignment accuracy total: 100+/-10 um with 72 mm span for 4" wafer, 54 mm for 3" wafer
Auto alignment tolerance setting time: +/-0.5um +/-10um +/-20um.
Approx time: 10 sec
Nitrogen gas pressure: 1kg/cm2 (14.2PSI)
Clean air pressure: 2.5kg (35.6PSI), 3.5kg (49.8PSI)
Vacuum Range: 45-76cm
Power 100/117/220/240VAC +/-10 350VA 50/60 Hz.
CANON PLA 501 FA是為光刻應用而設計的先進的Mask Aligner設備。用於半導體工業中半導體器件的制造。它利用先進的光刻技術，將遮罩線性對齊在光刻膠覆蓋的基板上。它具有大面積對準掩碼、擴展曝光區域和增強對準系統。先進的光刻單元由高強度紫外線光源和投影透鏡組成。集成級的位置分辨率高達0.5 nm,可重復性為0.15 μ m。這個單元還有一個步進電機，其驅動機構被設計成一步移動測量的原點。此外,為實現掩模對準,它擁有100多個微處理器和4個CCD攝像頭。CANON PLA-501FA的大面積對準面罩寬度和高度分別為206 mm和170 mm。這允許大面積曝光,並有助於減少時間,從而提高生產率。曝光區域直徑79毫米，加固X型梁和便於處理零件的支架。此掩模對齊器提供的高級對齊機包括一個12通道死區確定工具,可準確檢測基板上的投影模式。它還具有高精度對齊算法，以更精確的結構對齊。PLA 501FA采用內置高性能空氣淋浴，有助於確保清潔空氣供應以獲得最佳效果。此外，它還配備了自動高度檢測、Z級掃描和兩種凸輪軸切割機等一系列附加功能。總體而言,PLA-501FA是一款先進的掩模對齊器,專為制造高精度高速半導體器件而設計。它的大面積遮罩、擴展的曝光區域和增強的對準資產相結合，提供了一個準確、快速和精確的過程。
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