二手 CANON PLA 501 S #37944 待售

CANON PLA 501 S是一種計算機控制的掩模對準器，設計用於將光掩模（或標線）對準半導體材料晶片。這種對齊器是一種高度精確的裝置，允許在光掩模暴露在晶圓上的過程中納米級的精度。使用獨立的XYZ石英級和可互換光學器件，佳能PLA 501S可以達到高達1.5µm的曝光精度。PLA-501S使用直徑為5英寸的照明光掩模級,其模塊化設計允許用戶選擇用於曝光過程的光學器件。該單元集成了一個高精度級,能夠進行X-Y掃描,行程距離可達80mm,分辨率可達1 µm。此外，該裝置還配備了可調準直儀/共焦鏡頭組件和電動對焦設備。該501S還配備了一個高速曝光激光系統，能夠在可變頻率的情況下300mW/cm2可變曝光。該裝置還具有每次曝光最多16個透鏡的曝光圖案，曝光面積可針對各種基材尺寸進行調整。安全是佳能PLA-501S的一個主要特點，因為該機配備了激光安全裝置和內置的安全機制，以保護操作員和光掩模。該工具安裝在屏蔽的機櫃中,以確保不受外部源的幹擾。此外,還包括多級鎖定資產,以防止未經授權訪問設備。總體而言，PLA 501S是一種用途廣泛、精度高的掩模對準器，可以為各種半導體基板提供納米級的曝光精度。它是一種安全、用戶友好的模型，可用於快速、精確的掩蔽技術。