二手 CANON PLA 600 FA #9026887 待售

CANON PLA 600 FA掩模對準器是一種高度精確的光刻設備，用於生產半導體集成電路。它是為簡單的使用和最高的精度而設計的，支撐著從180毫米到200毫米大小的各種基板。該系統通過使用安裝在與基板相同的X-Y級上的精確激光模式發生器來實現高精度。這確保了整個基板之間的對齊是可能的。它還能夠在所有基板上進行全局移位和高精度模式尺寸調整。利用高質量的掃描離子束（SIB）技術實現掩模對準和曝光，優化了覆蓋精度和吞吐量之間的平衡。該單元使用衍射掩模在單個運行中實現所需的對準和曝光，並結合了脈沖激光功率調節器，用於基板表面更清晰的特征。集成了先進的光學傳感器機器，可確保1 μ m的直接對準精度和2 μ m的覆蓋精度。該工具還利用各種先進技術，在傳統方法所需時間的一小部分內處理光阻膠片。這包括先進的紫外線光源和可調節的快門資產，用於精確的曝光控制；以及用於自動調整和自動聚焦的多點光束掃描模型。該設備集成了一系列數字自動化功能，如FOUP（Front Opening UNPlease）裝載機，以實現最大的運輸能力；自動傾斜/移位以調整傾斜和移位以實現模式可重復性；以及用於改變工藝環境的噴嘴中心裝置。佳能PLA-600FA非常適合生產高密度和半導體器件，具有擴展的可編程曝光等特點。該系統提供了非常準確的結果和快速的周轉,減少了生產時間並提高了生產率。