二手 CANON PLA 600F #293830592 待售
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ID: 293830592
晶圓大小: 2"-6"
Mask aligners, 2"-6"
Photo mask size: 2.5", 4", 5", 6", 7"
Illuminator:
Lamp: 250W super high pressure mercury lamp
Uniformity: +/-3% / D150 mm
Exposure time setting: Light integration method (Switch setting from 0.1 to 59.9)
Exposure time: 5 sec for positive resist (AZ 1470), 2 sec for negative resist (OMR 83, using, ND-50 filter)
Alignment scope:
Objective lens: 10x (5 x, 20 x)
Zoom erector: 1 x-2.5x
Eyepiece: 10 x (15 x, 20 x option)
Field of observation: image
Scanning range X/Y direction: +/- 10 mm joystick
Alignment method:
Auto alignment (PLA-600FA): +/-0.5, +/-1.0, +/-2.0 ILm
Tolerance setting: Key patterns for auto alignment
Offset control: (0-7.9 ILm in 0.1 ILm units, 0-791Lm in 1 ILm units)
Alignment mode: Auto, semi-auto and manual.
CANON PLA 600F是一種用於各種半導體和微電子芯片制造過程的Mask Aligner機器。機器被設計為垂直對齊的設備，基板安裝在舞臺上，然後相對於遮罩或標線垂直移動。它可以處理直徑達6英寸的晶片，典型的處理時間為每晶片30 ~ 60分鐘。CANON PLA600F有一個裸露的壓板，並配有低能散射預對準系統。這個單元精確地將掩模與基板對齊，即使錯位高達3 µm。它還旨在保護基板在對準過程中免受潛在損害，並保持清潔和無碎片的工作環境。PLA-600F有一臺雙軸掃描機,能夠以各種模式運行,以適應廣泛的過程。可以調整掃描方向、掃描速率和曝光強度,以適應不同的工藝參數。機器還配備了自動曝光工具，允許精確的曝光控制，以確保在一系列圖像尺寸上的過程均勻性和準確性。在照明光學方面，CANON PLA-600F可以容納一系列鏡頭，可以選擇顯微鏡目標、微距目標和現場目標。這種廣泛的鏡頭選擇使機器能夠精確對準不同大小和形狀的基板。該資產中還包括用於高級照明均勻性控制的佳能傳感器陣列模型。該設備可用於控制邊緣照明和基板曝光時間的均勻性。CANON PLA-600 F還具有CLASS-SEV真空系統,在加工過程中將基板牢固地固定在舞臺上。該裝置還確保清潔、無碎片的真空環境。機器的舞臺也很容易使用，可以通過簡單直觀的用戶界面進行調整。綜上所述，PLA-600 F是一種多用途且精確的掩模對齊機，能夠處理一系列不同的過程。它配備了一系列鏡頭、一臺傳感器陣列機和一臺CLASS-SEV Vacuum工具，均確保精確對準、照明均勻性和清潔度。易於使用的用戶界面使這臺機器易於使用,有助於確保平穩高效的生產。
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