二手 COBILT CA 400 #10357 待售

COBILT CA 400 Mask Aligner是為制造晶圓Mask基板而設計的先進光刻曝光設備。CA 400是一種生產精密集成電路（IC）設備精細屏蔽的快速、準確和高效的方法。對齊器的口罩制作能力為各種類型的設備制造提供了更好的生產時間控制。COBILT CA 400利用高分辨率打印頭和圖樣編輯器的組合來創建精確的精細圖樣基板來制作蒙版。對齊器可以接受多種尺寸的標準晶片基板，印刷圖樣的位置精度由配有非常精確的quattro控制器的坐標測量系統（CMS）保證。CA 400提供卓越的曝光精度,其曝光水平確保符合IC行業設計標準和光刻標準。蒙版完成模塊進一步提高了曝光精度,用戶只需一次曝光即可完成多個蒙版。該模塊利用自己的專用軟件進行操作,從而幫助COBILT CA 400執行掩碼模式識別和基板制備等任務。CA 400還配備了其他功能,例如輸出監視器,允許用戶在晶圓獲勝之前檢查操作狀態。反饋有助於確保晶片正確暴露和清潔。COBILT CA 400采用了高度先進的隔膜系統，在整個掩模表面積上實現均勻的光分布。因此,可以在快速曝光時間內完成精細的模式匹配.對齊器中使用的高靈敏度熱板還有助於提供一致和準確的掩模對齊方式,確保適當放置掩模進行處理。CA 400的強大功能（如自動蒙版放置和叠加模式配置）,可幫助設備達到此類產品通常不會看到的效率水平。COBILT CA 400可以快速完成口罩制作過程，減少過程中涉及的體力勞動量，同時生產符合IC設備設計者設計要求的口罩。除了CA 400的高級功能外,該設備還擁有最低的成本和最低的維護。由於成本效率高和維護要求低，小公司和初創企業更有可能對使用對齊器感興趣。這一點,加上其先進的功能,如掩模完成和熱板功能,使COBILT CA 400成為滿足現代掩模制作需求的一個有吸引力的選項。