二手 DNK MA-4200 #293762485 待售

DNK MA-4200是為生產半導體工業中的光刻口罩而開發的高精度口罩對準器。它的設計目的是使不透明和透明的光掩模與光刻中使用的基板對齊，並且能夠提供精確和一致的光掩模與2 μ m範圍內的基板對齊，以取代掩模或基板。該對準器具有30X的物鏡和改進的對準設備，以提供最佳的圖像形成和改進的掩模與基板對準能力。通過使用激光二極管將光掩模投影到基板上，對準器起作用，從而提供高精度和精確對準。交互式註冊系統使操作員能夠輕松地識別和調整基板上的註冊標記，同時高分辨率攝像機獲取對齊圖像進行處理。該攝像機采用先進的基於算法的圖像識別技術，能夠精確地測量定位標記的大小和位置以及其他特征。該工具采用改進的基板表，經過精確校準和數字控制，以500毫米/秒的速度和精確的基板運動。該表還設有一個手動和自動萊特機器，允許選擇適當的加權性能，以滿足各種基材的需求。對齊器配備了多種操作，包括水平和垂直面罩倒置、面罩翻轉和屏幕移位操作，以及手動基板移位功能，允許快速準確的對準調整。DNK MA4200采用用戶友好的圖形控制軟件設計,可輕松準確地操作對齊器。此外,其自動缺陷檢測（AD）功能使操作員能夠快速識別光掩碼上的實際故障點。對齊器還具有可選的邊緣檢測工具,可提供額外的位置精度。這使得它成為生產半導體工業中使用的光刻口罩的理想選擇。