二手 DNK MA-4200 #9159261 待售

DNK MA-4200是一種自動化的掩模對齊器,設計用於處理200 mm以下的晶片。它具有掩模定位器（MP）和對準顯微鏡（AM）,可用於晶圓上各種器件結構的精確對準。掩模對齊器常用於微電子工業中的光刻工藝。掩模定位器（MP）具有X-Y定位系統,可將掩模框架移動到晶圓上方。它能夠將掩模框架自動對準晶片,分辨率為0.1 μ m。它配有同步電動機和高分辨率編碼器，用於精確定位。口罩定位器還允許借助對準顯微鏡手動微調口罩框架。對準顯微鏡（Alignment Microscope, AM）是一種具有內置激光二極管和防濺視圖端口的光學顯微鏡。用於以納米級精度觀察和對準晶片上的掩模框。對準顯微鏡的放大倍率為10倍,分辨率為0.2 μ m。它能夠對準大面積基板與對準目標的幫助。DNK MA4200還包括攝像機定向機制（COM）,用於定向攝像機進行掩碼寫入和其他處理。COM配備了高性能的扭矩電動機和精密的編碼器，使其能夠在晶圓上高度精確地對準相機。此外，Mask Aligner配備了大功率鹵素照明器，使得在大面積上產生均勻照明成為可能。它具有內置冷卻系統,可增強掩碼寫入性能,以及用於跟蹤維護操作的維護日誌。MA 4200是一款可靠高效的Mask Aligner,具有適合各種光刻工藝步驟的功能。它提供了精確度、精確度和性能的完美結合，使其成為高質量微電子制造的理想選擇。