二手 ELS TECHNOLOGY ELS 106FA #9052741 待售
網址複製成功!
ID: 9052741
Fully automatic mask aligner, 2" - 8"
Mask Size: 4" - 9"
Lamp House: 250W, 500W, 1KW
Wave Length: Broad Band, 365/400/436nm
Light Intensity: >20mW / cm2 Based on 365nm (250W); >40mW / cm2 Based on 365nm (500W)
Light Intensity Uniformity: < 3%
Effective Exposure Area: Max. 150 mm x 150 mm / Max. 200 mm x 200 mm
Transportation: Double Arm Robot
Exposure Mode: Proximity, Soft, Hard, Vac. Contact
Alignment Key: 150 x 150um and smaller
Alignment Accuracy: ± 1um
L/S Resolution: 1um Based on contact Mode, PR thickness: 1um
Running Time: < 28 sec./pc
System Control: PC Base
Option: Cut Filter, Double Sides Alignment.
ELS TECHNOLY ELS 106FA是一款用於微電子和光子學制造的現代化、高端自動掩模對準器。它是任何以研發為導向的公司、實驗室或大學的理想解決方案。ELS TECHNOLOGY ELS-106FA利用光刻技術的最新進展,為廣泛的應用提供高度精確的光刻技術。ELS 106FA的主要組件是控制器、舞臺甲板、舞臺輪、掩模托架、模式發生器、晶圓處理程序和晶圓表。控制器是一臺臺式計算機,配備最新的Windows 10 Pro軟件包,專用於運行ELS-106FA光刻設備。舞臺甲板和舞臺輪提供晶圓和掩模臺相對的精確運動。掩模載體裝有模式發生器,該發生器負責生成所需的平版印刷模式。晶片處理程序將晶片從晶片臺轉移到舞臺甲板。最後,晶片表是掩模和晶片對齊固定的平臺。ELS TECHNOLY ELS 106FA采用了一種獲得專利的跳臺掩碼對準程序。這項專利技術旨在減少精確校準掩模和晶圓所需的時間。ELS TECHNOLOGY ELS-106FA是一個自動化系統,能夠在沒有操作員幹預的情況下執行所需的光刻模式。該單元還具有頂級的8 µm分辨率,使其適合大多數要求高精度的應用。除了強大的光刻能力外,ELS 106FA還支持眾多的模式生成技術。這包括使用自定義開發的設計模板庫或將自定義設置應用於用戶提供的掩碼。此外,該機器能夠獨立地控制單個板的曝光,從而實現更復雜和先進的光刻設計。ELS-106FA還具有許多其他特性和功能。例如,該工具支持遵守行業標準,包括IPC-A-600和IPC-7351。它還支持一次最多500個熔融晶片的報告和可追蹤性。此外,該資產還支持各種自動化質量保證工具。最後,ELS TECHNOLY ELS 106FA Automated Mask Aligner的性能和功能無與倫比。它提供高分辨率的自動化光刻,支持多種模式生成技術,並支持行業標準。這些特性使得ELS技術ELS-106FA微電子和光子學制造的理想選擇。
還沒有評論