二手 ELS TECHNOLOGY ELS 106SA #9059476 待售
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ID: 9059476
晶圓大小: 2 to 6
優質的: 2011
Semi-auto mask aligner, 2"-6"
Mask Size: 4"~7" Mask
Lamp House: 250W & 500W
Wave lenght: Broad Band (365 / 400 / 436 nm )
Light Intensity: > 20 mW/cm2 Based on 365 nm (250W) , >40 mW/cm2 Based on 365nm (500W)
Light Intensity Uniformity: < 3%
Effective Exposure Area: Max. 150 mm x 150 mm
Leveling: Auto
Contact Mode: Auto
Exposure Mode: Proximity / Soft / Hard / Vac. Contact
Alignment Accuracy: +- 1um
L/S Resolution: 1um Based on Contact Mode, PR Thickness : 1 um
Antivibration Table: Yes
System Control: PC Base
Option: Cut Filter / Double Sides Alignment
2011 vintage.
ELS TECHNOLOGY ELS-106SA是一款緊湊易用的掩模對齊器,用於制造高質量的半導體器件,如內存芯片、邏輯器件和薄膜晶體管。ELS-106SA設計用於在晶圓表面上精確快速地對齊和傳輸高分辨率光掩模,掃描面積可達5mm x 4mm。ELS TECHNOLOGY ELS-106 SA先進的光學對準設備自動檢測所有光掩模和晶圓層的特征大小、對準誤差、叠加精度和工藝參數。ELS-106SA配備了高度精密的機動化對準系統,可自動檢測光掩模和晶圓層中所有精度為20 nm的端點。此外,光掩模圖樣映射到晶圓的位置設置也被自動控制。對準單元由內置激光散射機增強,提供精確的動態叠加測量,允許將光掩模圖樣精確對準下面的薄膜層。ELS TECHNOLOGY ELS-106SA還配備了高效步進電機,用於將光掩模精確定位在晶圓上。這款電機配有一個索引器,並由ELS-106 SA的嵌入式微控制器工具提供動力,提供精確的納米級對準。ELS TECHNOLOGY ELS-106SA還具有自動聚焦功能,允許用戶以更高的分辨率和準確性優化曝光,同時仍能提供強大的性能。ELS-106SA還配備了由溫度控制器調節的環境溫度控制環境,以確保過程穩定。這一附加功能有助於確保低光掩碼與晶圓的接近度,這對於應變矽技術等應用至關重要。ELS TECHNOLOGY ELS-106SA是獨立的,但可以單獨配置以滿足各種測試和過程要求。支持平臺中性測試條件,可與其他系統集成,用於自動缺陷檢測和光掩碼優化功能。ELS-106SA還具有遠程訪問功能,可用於遠程監視和資產性能分析以及故障排除。總之,ELS TECHNOLOGY ELS-106SA是一種可靠可靠的掩模對準器,能夠為各種半導體器件提供高質量的光掩模。其先進的自動對準和自動對焦功能確保了無與倫比的準確性和可重復性,而其溫度控制的石英元件則提供了高分辨率晶圓加工所需的穩定性。其其他特性如遠程訪問、平臺中立性以及與其他系統的集成,進一步提高了其有效性。
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