二手 EVG / EV GROUP 40 #9197307 待售

EVG®/EVG/EV GROUP 40 Mask Aligner是一款用途廣泛、精密的光刻設備,設計用於在半導體器件上制造一致的微觀結構。該系統允許在受控環境中使用均勻的紫外線對準和可靠曝光尺寸不超過3.7英寸的基板。Mask Aligner獨特的雙級設計確保了每一層的準確和幹凈的曝光,而標準的內置真空在光刻過程中將基板緊緊固定。此外，該裝置能夠處理各種各樣的光掩模和其他光學上透明的基板，以獲得優異的效果。Mask Aligner配備了先進的數字對齊機，允許在曝光時精確定位光學清晰的基板。對準工具采用兩個階段的精細調整，以達到完美的配準精度，確保每個微觀結構都能以幹凈均勻的光潔度成功暴露出來。此外，一個獨特的光學對準傳感器跟蹤基板的精確位置，消除錯位和保證重復曝光的準確性。該資產的光學腔室旨在減少光散射，以便在整個基板上均勻的紫外線照射。這樣可以確保在每一層上精確復制相同的結構,而內置真空允許在整個過程中保持穩定和安全的牢固固定基板。Mask Aligner除了具有自動對準功能外，還可以處理多種光學上清晰和半透明的基板，方便清潔一致的光刻。為了滿足更具體的需求,可以使用專門的軟件、硬件和附件（例如高精度加熱級、高性能UV燈）定制模型。此外,Mask Aligner可與現有生產線集成,實現無縫集成和最終通用性。總體而言,EV GROUP®/EVG 40蒙版對齊器是任何需要極高精度和精確度的操作的理想選擇。其先進的光學腔室、自動對準設備以及處理各種基板的能力，使其成為半導體器件制造和其他高科技制造作業的理想選擇。