二手 EVG / EV GROUP 40 #9232667 待售

EVG/EV GROUP 40蒙版對齊器是一種高精度、高效率的顯微光刻工具，能夠將圖樣對準並暴露在各種基板上。掩模對準器的精度來源於其0.6 μ m的先進垂直分辨率,以及高達10 µm的可重復性,以實現投影圖像的最佳放置。這種精確度可確保圖樣以較長期的方式精確地暴露在基板上,從而為以後的光刻工藝步驟準備基板。EVG 40掩模對齊器的高級階段設計在任何對齊過程之前都能確保極高的準確性和可重復性。該級能夠移動行程達到600毫米,可重復性為0.05 μ m,定位精度為0.3 μ m。這樣可以確保基板為面朝下的對準做好適當的準備，並且可以反復準確地暴露出來。這個階段的設計還允許高精度的模式移動，同時將相同的模式暴露在多個基板上。為了便於高效的生產處理，|EV GROUP 40蒙版對齊器配備了高效的蒙版裝載機。易於使用的加載程序可存儲多達40個掩碼,並以有序的方式索引這些掩碼,從而確保整個過程的生產一致性。這種快速、精確的掩模加載過程進一步提高了生產時間，並最大限度地降低了出錯風險。EVG/EV GROUP 40蒙版對齊器還可以憑借其高效的投影顯示系統方便大批量生產運行。該系統具有0.6 μ m的曝光分辨率和高達1056 x 2032點的高分辨率投影顯示屏,可同時在各種基板上生成各種光刻結構。這樣可以確保更快、更精確的生產處理。EVG 40掩模對準器還設計用於觀察和監控生產過程的每個步驟。它裝有一個內部安裝的CCD攝像機和一個記錄和處理實時成像的自動增益檢測系統，從而大大提高了工藝精度。EV GROUP 40蒙版對準器是一種高效的微光刻工具，用於精確的蒙版對準和將圖樣暴露在基板上。其先進的舞臺設計確保了極高的準確性和可重復性，而其高效的特點使其適合廣泛的光刻應用。其內置的監測系統進一步確保過程監測和提高生產性能。