二手 EVG / EV GROUP 420 #9292586 待售

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ID: 9292586
晶圓大小: 4"
優質的: 1999
Mask aligner, 4" Top and back side alignment BSA Chuck wafers (2) Edge clamping BSA chucks Transparent chuck for wafers Manual loading 1999 vintage.
EVG/EV GROUP 420 Mask Aligner是為光刻應用而設計的技術高度先進的設備。利用下一代光學,該系統能夠精確對準納米應用的光掩模。此設備能夠打印小至35nm或更高的功能,是最先進技術的理想選擇。EVG 420除了印制精確度令人印象深刻外,還提供多種功能,使其成為高精度制造的一個有吸引力的選擇。EV GROUP 420 Mask Aligner由10.4百萬像素相機傳感器、可調成像鏡頭、高精度電動級、集成真空晶片卡盤以及用於控制整個機器的高端PC組成。該工具還提供了多種軟件選項,使用戶能夠完全控制光刻工藝的所有參數。該資產提供高達15 nm的高精度對齊精度,並且能夠精確打印35 nm或更高特征的圖案。其聚焦和位置反饋模型確保了一致的打印結果,而高移動速度和可重復定位為大批量生產提供了更大的吞吐量。此外,該設備還具有對準監控系統和自動對焦功能。420 Mask Aligner還提供了多種重要的安全功能,如集成的緊急停止按鈕、手動可操作性覆蓋和自動關閉功能。這些安全功能有助於確保任何制造團隊的安全工作環境。總而言之,EVG/EV GROUP 420 Mask Aligner是一個功能強大、用途廣泛且極其精確的系統,非常適合任何復雜的光刻操作。其先進的技術和各種軟件選項使其成為希望保持領先地位並生產最優質納米級產品的任何生產工廠的理想選擇。
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