二手 EVG / EV GROUP 601 #9402075 待售

EVG/EV GROUP 601 Mask Aligner是一種高精度的mask aligner,設計用於制造高級光掩碼的多處理套件的一部分。基板尺寸可達200 mm x 250 mm,對準精度可達60納米（nm）,這款蒙版對準器設備齊全,即使是最精致、最靈敏的光掩模也能處理。EVG 601 Mask Aligner專為需要在基板上精確對準圖樣光掩模的制造工藝而設計。掩模對準器配有雙級對準標記和實時成像，以達到最大精度，確保光掩模與基板精確對準。其二維精密級采用壓電驅動技術提供納米級步進分辨率，提供10 nm的位置重復性。EV GROUP 601 Mask Aligner可容納最大200 mm對角尺寸的晶片，其對準系統可調節以容納不同形狀的光掩模。601 Mask Aligner是先進的光刻工藝的絕佳選擇,例如曝光和顯影面罩和標線,以及預加工和後處理的光掩模。此外,掩碼對齊器還配備了板載導航系統,可在對齊標記之間自動移動,並可加快對齊時間。導航系統還可確保更快、更精確的基板與掩模對準。EVG/EV GROUP 601 Mask Aligner是一種用途廣泛且可靠的Mask Aligner,可用於多種光刻工藝。掩模對準器能夠提供高精度的對準、快速的處理速度和提高的產量，使得EVG 601成為光掩模處理的理想選擇。