二手 EVG / EV GROUP 610 #293615268 待售
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ID: 293615268
Mask aligner
Wafer thickness: 0.1 mm to 10 mm
Exposure area, 6"
Uniformity: < 4%
UV Intensity meter with prober: 365 nm
Alignment capability:
Topside alignment: <0.5 µm
Bottom side alignment: <1.0 µm
LED Light source:
G, H, and I-Line wavelengths
Modes:
Constant power
Constant intensity
Constant dose
Constant time exposure modes
Exposure modes:
Vacuum contact
Proximity contact
Hard and soft contact
Alignment stage:
Precision differential micrometer spindles
Motorized Z-axis
WEC Adjustable and exposure contact force
Top side microscope:
Manual split field
Resolution visible light CCD Camera
Digital zoom: 2x and 4x
Travel range:
X: 32 mm-150 mm
Y: -75 mm / 30 mm
Bottom side microscope:
Manual split field
Resolution visible light CCD camera
Digital zoom 2x and 4x
Travel range:
X: 8 mm-100 mm
Y: ±10 mm
Mask holder:
Size: 5" x 5"
Exposure: Round opening
Bottom loading with automated vacuum transfer
Mask loading frame mask, 5"
Vacuum contact wafer chuck:
Manual load with pre-alignment aid
BSA: Windows
Hard coated and lapped
Vacuum contact seal for wafers to thick: 1.5 mm.
EVG/EV GROUP 610是用於光刻的最先進的掩模對齊器。這種遮罩對齊器非常適合現代高精度應用。它提供了一個高度精確、快速和可重復的光刻工藝，能夠在半導體工業中始終如一地產生具有最佳對齊可重復性的細線分辨率模式。EVG 610具有模塊化體系結構,允許用戶根據特定的生產要求定制機器。它有一個自上而下的6英寸的工作區域，這樣基板就可以用大的平面視場處理到50毫米厚。精密級還提供2000 x 1000 μ m的掃描範圍² 1 nm的分辨率。機動化的Z軸確保了掩模和基板在所有點之間的最佳平行性,並且高分辨率的光學系統允許最大放大1000倍,並且在整個視場範圍內以± 1 μ m的高精度控制工作距離。EV GROUP 610具有多種特性，使其適合於廣泛的應用，包括光刻膠曝光、對準蝕刻、納米級圖樣和層配準。它同時支持UV和DUV光刻以及各種曝光源，從氙燈到ArF激光器。此外,該機器還與各種模式發生器、曝光頭和曝光源控制器完全集成在一起,以實現光刻工藝的完全自動化。此掩碼對齊器易於使用,需要最少的操作員幹預。它具有用戶友好的觸摸屏界面，便於編程和監控光刻配方和過程。它還提供高級控制和反饋功能，實時提供光學和過程控制數據。610可以與其他光掩碼制造解決方案集成,允許用戶開發自動化的多生命周期解決方案。總之，EVG/EV GROUP 610是一種高度精確、通用且用戶友好的掩模對齊器，是光刻應用的絕佳選擇。這臺機器提供了廣泛的特性和功能,為用戶提供出色的性能和可重復性,以滿足他們的光掩模制造需求。
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