二手 EVG / EV GROUP 620 #293592949 待售

EVG/EV GROUP 620是用於晶圓級光刻處理的全自動掩模對齊器。它為研究、開發和生產目的提供了廣泛的應用。EVG 620采用高精度、二維的鍍鋅掃描儀，負責控制要在晶圓上創建的模式。這種遮罩對齊器還提供了卓越的精度，最小光斑尺寸為2.2微米，最大位置精度為+/-10納米。它還提供了廣泛的可以使用的基板，如Si（矽）、Kapton、玻璃和石英。使用EV GROUP 620,用戶可以在直徑不超過8英寸的晶片（包括嵌入小型電子元件的晶片）上創建圖樣並執行光刻工藝。此外,掩模對齊器在XY軸上提供了± 25 mm的寬工作範圍,從而可以在大型晶片上快速陣列化。面罩對齊器還提供高度自動化，具有用戶友好的觸摸屏控件和自動對齊系統。它還能夠產生各種光學功率，包括標準非多孔基板的5-20mW和多孔基板的20-80mW，允許產生具有極好重復性的高分辨率模式。620還利用了最先進的軟件,使用戶能夠使用高精度執行晶圓處理。用戶友好的界面使用戶能夠快速輕松地設計、對齊和蝕刻蒙版上的功能。總體而言,EVG/EV GROUP 620為需要晶圓級光刻處理的行業提供了高效、經濟高效的解決方案。它功能強大、用戶友好的軟件,加上出色的準確性和自動化控制,使其成為用於研究、開發和生產目的的理想選擇。