二手 EVG / EV GROUP 620 #293732724 待售
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EVG/EV GROUP 620掩模對準器是為微電子和光電器件的制造而設計的精密光刻工具。此工具使用戶能夠使用接觸光刻技術將細線和超細線特征精確地陣列化為基板。EVG 620能夠產生高產量、高精度的亞微米特性。EV GROUP 620具有可變照明設備,包括掩模和晶片級、一個或兩個可移動反射鏡以及獨立聚焦、曝光和對準控制。這一特性使系統能夠曝光光波長在350 nm至560 nm之間的基板。該單元還可以配置軟件控制，以便能夠使用各種光刻工藝。620集成了自動對準功能,這要歸功於其內置的激光模塊。此特性大大提高了掩模對準和叠加步驟的精度，從而減少了工藝時間和成本。掩模對準機使用兩個激光二極管光束，以確保光刻工具內的光掩模和基板精確對準。給定幾何的對齊精度優於0.2微米。此外,EVG/EV GROUP 620還提供自動模式生成功能。利用復雜的軟件,用戶可以為制造過程中的每個標線生成高度詳細的光學腳本。該軟件允許對精確曝光進行優化，以最大程度地減少缺陷的發生，最大限度地減少鏡頭對鏡頭的變化。EVG 620非常適合許多工業應用,包括高分辨率標線、微電子器件中的缺陷減少以及薄膜光伏器件。它兼具精確度、性能和生產友好特性，是制造商的絕佳選擇。
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