二手 EVG / EV GROUP 620 #9144780 待售

EVG/EV GROUP 620是一款高端光刻掩模對齊器，設計用於掩模、晶片和基板的精確對齊。它是一種計算機與掩模對齊器（CMA），允許以最高精度和準確度將曝光掩模對齊基板。該系統能夠為半導體和電子元件制作分辨率為1 μ m的模版。EVG 620有兩個步進電機驅動的XY運動平臺，提供了基板的精確對準。這些平臺驅動一個運動平臺，該平臺可容納一個曝光掩碼，使其能夠以精確的增量在兩個軸上移動。這與具有特定圖樣或設計的掩模相結合，使基板或晶片能夠在不接觸低錯位或位移的情況下轉移。除了為光刻工藝提供精確對準外，EV GROUP 620還具有自動對焦功能。自動對焦確保在曝光過程開始之前對基板進行精確掃描，確保整個過程以最佳方式進行。620配有直觀清晰的圖形用戶界面,便於操作和設置。它允許精確快速的定位，意味著整個光刻過程可以快速無縫地完成。此外，EVG/EV GROUP 620設計為模塊化，可以輕易升級，以滿足客戶不斷變化的需求。這樣可以靈活地進行線下的潛在升級。最後,EVG 620是高度可配置的,可以定制以適合特定的應用程序。無論是高精度對準還是細膩的細線工作，EV GROUP 620都可以根據不同的客戶要求進行設置。620是一款高端的光刻面罩對齊器，提供精確準確的曝光面罩和基板對齊，具有集成的自動對焦系統，以及清晰的圖形用戶界面。它是模塊化和可自定義的,並具有升級功能,允許無縫操作和最大的用戶滿意度。