二手 EVG / EV GROUP 620 #9160674 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

ID: 9160674
晶圓大小: 4"-6"
優質的: 2005
Mask aligner, 4"-6" Chuck size: 2", 4" & 6" Mask holder: 3", 5" & 7" Printing mask holder / Chuck Alignment: Topside & Back side Cassette to cassette and manual mode TSA / BSA / NIL module GENMARK Robot 2005 vintage.
EVG(EV GROUP)EVG/EV GROUP 620是一種自動化的多合一掩模對齊器,在光刻領域廣泛用於半導體行業的各種應用。EVG 620是一種靈活、高精度的光刻工具,提供廣泛的對準和成像能力,使其能夠用於制造復雜集成電路(IC)芯片和其他微電子器件。EV GROUP 620為臨界光刻應用配備了高度精確、可重復的定位。它結合了5軸高精度XY-theta全球定位設備(GPS)級和多軸壓電驅動的局部對準系統(LAS),在納米範圍內帶來令人印象深刻的精度和可重復性。620還擁有最先進的偏振分束器(PBS)顯微鏡,可實現高放大光學成像以支持與亞微米分辨率對準。此外,EVG/EV GROUP 620還包括一個集成的激光二極管成像單元,進一步增強其成像能力。EVG 620能夠處理多種具有大範圍抗蝕性厚度的基材。它的高精度階段使它能夠對齊並精確地在尺寸達300毫米(12英寸)的基板上成像IC。它還能夠形成雙大馬士革特征,創建溝槽、通風孔、大門,甚至復雜的3D結構。EV GROUP 620具有廣泛的配置和選項,可以根據特定的客戶要求對其進行定制。這些配置包括IC對準器、掩模對準器、晶圓掃描儀、掩模掃描儀和脈沖激光直接成像機等。此外,620還有一個人性化、直觀的帶有觸摸屏技術的圖形用戶界面(GUI),即使沒有經驗的用戶也很容易使用。這種多合一掩碼對齊器的設計是為了與幾乎所有的過程控制工具兼容,從而可以在任何現有的內部制造過程中輕松集成和操作。此外,這臺機器能夠在清潔環境中運行,並得到卓越的服務和支持,以確保始終保持最佳運行。總體而言,EVG/EV GROUP 620是一款令人驚嘆的口罩對齊器,提供最先進的性能和業界最高的質量標準。其先進的功能和可靠性使其成為光刻應用的最佳選擇之一。
還沒有評論