二手 EVG / EV GROUP 620 #9180755 待售

EVG/EV GROUP 620是專門為先進光刻和光掩模生產而設計的掩模對齊器。這種面罩對齊器適用於研發實驗室、大學研究或試點生產應用。此掩模對齊器具有許多功能,使其在光掩模行業中獲得成功,例如能夠對190 mm和200 mm晶圓格式進行成像。因此,EVG掩模對齊器具有廣泛的用途,能夠對簡單和高級結構進行成像。位於掩模頂部的感光層允許對較大基板直徑進行高質量成像。該層還可以方便地將成像過程從掩模轉移到設計的基板，從而確保實現正確的精度和對準。先進的過程控制確保設備產生準確和可重復的布線和成像結果。這是通過雙級工藝實現的，其中第一級涉及光致抗蝕劑的應用，第二級涉及基板的暴露。此過程以完全自動化的方式完成,並有機會在必要時添加其他步驟,例如壓紋或線標記。EVG 620成像系統還具有基於激光的原位曝光工具，使精密的集成電路設計能夠以最小的人力和時間準確創建。用戶友好界面完全遵循掩碼制作流程，只允許訪問必要的功能。刀具結構設計方便，有定制的安全燈幕護衛曝光室，以確保只有有安全標誌的人員才能進入機器。此外，還有一個內置通信系統，可以從其他地點進行遠程監測和控制。再者，EV GROUP 620的設計是完全模塊化的，允許用戶針對特定的應用需求選擇合適的工具配置。這種靈活性縮短了產品開發和高效升級和更新的準備時間。總之，620是一種具有先進工程和用戶友好特性的有效可靠的掩模對齊器。它的模塊化設計足夠靈活以適應所有類型的情況和要求,並且易於使用的過程控制確保了高質量的成像結果。