二手 EVG / EV GROUP 620 #9206564 待售

EVG/EV GROUP 620是一款全場、半自動的光刻掩模對齊器。它能夠生產用於半導體器件制造過程的高精度晶片。對準精度為0.8 μ m,可實現高分辨率特征的精確陣列。該機由一個主框架和一個設備控制器組成。主框架由對準臺、觀看器和真空系統組成。對齊階段能夠準確定位對象支架、轉接卡盤和保持掩碼的框架。它還容納了許多光學元件，包括照明器、聚焦透鏡和物鏡。這些元件用於將聚焦光束引導到對準級的表面。觀看器是由攝像機和顯示器組成的數字單元。用於準確對準和監控舞臺上每個元素的位置。真空機負責為對準過程提供必要的壓力。EVG 620利用對齊器、叠加器和晶圓階梯計量法的組合，達到每個晶圓的吞吐量時間<2分鐘。其對準精度基於基於三維圖像的對準技術。這項技術是基於對圖像的捕捉和分析，用高清可見光顯微鏡拍攝。對齊算法用於計算晶圓和掩模的坐標，並為X-Y-θ級提供精確的引導信息。晶圓階梯計量學也涉及顯微鏡，但這次的重點是測量器件在晶圓上的階梯高度。它采用光學幹涉法生成設備的三維輪廓，並確定確切的步長大小。這項技術能夠以0.1 μ m的分辨率測量甚至非常精細的步高。EV GROUP 620是一種可靠的光刻掩模對齊器，可用於半導體器件制造過程中的各種項目。它結合了最先進的對齊和計量技術，在一小部分時間內提供準確的結果。