二手 EVG / EV GROUP 620 #9207967 待售
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ID: 9207967
晶圓大小: 6"
優質的: 2011
Mask aligners, 6"
Topside alignment (TSA)
Manual alignment
Up to 6" wafer capable
Can be operated in proximity, soft contact, hard contact / vacuum contact exposure modes
Lamphouse: 500 W
Exposure optics: Type C, 350 nm - 450 nm, broadband
Microsoft windows based user interface
System PC, keyboard, cables
Operations manual for EVG 620
2011 vintage.
EVG/EV GROUP 620是一款高精度對準和多用途掩模對準器,通過快速、精確和多用途的操作,針對高級對準和模式進行了優化。它具有較低的熱預算操作特點,可用於突破性制造熱印跡失真的納米級器件。EVG 620由晶圓和掩模處理階段、光束投影和快門設備、精密掩模平移階段、控制器以及電動照明和投影透鏡系統組成。晶圓和掩模的穩定性由專有的EVG/EV GROPU P6000基板和圖案載波端口技術保證。這項技術可以輕松加載、實現總體自動化,並且可以輕松定位多達5個″晶片和10個″ x 10個″模式載波。EV GROUP 620的精確對準光學單元由一臺基於Zemax的光學機器組成,該光學機器采用計算機菲涅耳透鏡,用於改進視野和減少像差。它還配備了雙照明和投影工具以及場內失真校正選項。晶圓對準是使用機器的高級對準傳感器陣列和自動對準軟件完成的。它還配備了先進的對齊模式,以支持不同的對齊和模式需求。使用精確的叠加值,620精確地重叠晶片上的圖樣以創建復雜的結構。EVG/EV GROUP 620的其他值得註意的特點包括其基於激光幹涉儀的覆蓋和圖案精度,以及用於精確曝光控制的液壓驅動快門。該資產還適合使用一系列材料,從傳統的光掩碼到先進的設備材料,如SiGe或GaN。總體而言,EVG 620是功能強大且用途廣泛的掩碼對齊器,對於要求最高精度和精確度的應用程序,它是值得信賴的選擇。它是制造納米級器件的完美工具,已成為世界各地制造實驗室不可或缺的工具。
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