二手 EVG / EV GROUP 620 #9216173 待售

EVG/EV GROUP 620是一種掩模對準器，用於半導體工業生產集成電路（IC）。它是一種激光微陣列工具，利用高分辨率相機將激光束引導到特定幾何形狀的掩模上。420毫米² X-Y級能夠在制圖過程中精確定位掩模,達到0.3 µm ±的最小對準精度。設備的旋轉角度為± 7°,允許最大程度的處理靈活性。EVG 620具有VIRTUAL STAGE™ Control軟件,它提供快速、用戶友好的工作場所和易於使用的界面。它使用戶能夠使用所需的參數對激光進行編程,並有效地控制生產過程。軟件還提供了一份全面的報告，詳細說明了編程參數和系統信息，有助於監測設備的準確性和可重復性。EV GROUP 620使用波長為355 nm的先進風冷激光器運行。激光在掩模處反射，然後指向基板，在基板上定義顯影模式。此過程將在兩到三分鐘內完成,具體取決於模式的類型和復雜性。620具有集成的synchronousXY掃描機，並為激光束和掩模提供高精度軌跡，確保精確的陣列。該單元采用了一種有趣的動態聚焦補償技術，確保了全方位的最佳聚焦。它還具有獨特的泵和過濾器在基板上.EVG/EV GROUP 620還為用戶提供了一個智能配置工具，幫助生產大型IC。它裝有一個在軸上的晶片卡盤，將晶片統一對齊。此外，基於棱鏡的綜合再聚焦資產最大限度地減少了對全球再聚焦操作的需求，並提高了生產率。EVG 620還具有激光自動對焦模型，在掃描過程中快速調整激光焦點，提高圖樣產量。此外，該裝置能夠處理各種不同的基板，並且經過優化，可以使用所有類型的抗蝕劑材料。總體而言，EV GROUP 620是一款高效、精確的掩模對齊器，允許用戶以最小的大驚小怪產生復雜、錯綜復雜的模式。它是希望以高效可靠的方式生產詳細半導體芯片和集成電路的用戶的理想選擇。